электроннолучевое испарение 

 Электронно - лучевой метод испарения - это способ вакуумного испарения покрытия, который был разработан на основе испарения вольфрамовой проволоки.  В вакуумных условиях используется электронный луч для непосредственного нагрева испарительного материала, газификации испарительного материала и его транспортировки в фундамент, конденсации на фундаменте для образования тонкой пленки.  В электронно - лучевой нагревательной установке нагреваемое вещество помещается в тигель с водяным охлаждением, чтобы избежать реакции испарительного материала со стенкой тигеля, влияющей на качество пленки, поэтому метод испарения с электронным лучом может производить пленку высокой чистоты, в то время как в одном и том же испарительном осадочном устройстве может быть размещено несколько тигелей для одновременного или раздельного испарения, осаждения различных веществ.  При испарении электронным лучом испаряется любой материал.  Электронный луч - это высокоскоростной поток электронов.  Электронно - лучевое испарение является зрелым и основным методом покрытия в современной технологии вакуумного покрытия, который решает проблему прямого контакта между мембранным материалом и исходным материалом парового покрытия в режиме нагрева сопротивления. 

электроннолучевое испарение 

Автомобиль с продольным сканированием луча 

 Система с распылителем, а также полностью цифровой сканер луча для более толстых однокарманных и крупногабаритных тигелей. 

 Индивидуальные электронные пушки с системой вращения тигеля используются для специальных применений и увеличивают время продукта между обслуживанием источника. 

Ионное испарение (IAD) 

 Технология ионного источника обеспечивает более низкую технологическую температуру, более короткое технологическое время и улучшенные характеристики пленки для применения в области фотоники и фотоэлектроники. 

 Преимущества: 

 Электронно - лучевое испарение может испарять материал с высокой температурой плавления, чем общее сопротивление нагрева и испарения высокой тепловой эффективности, плотности потока пучка, скорости испарения, изготовленной пленки высокой чистоты, хорошего качества, толщины может быть более точно контролирована, может широко использоваться для подготовки высокочистой пленки и проводящего стекла и других оптических материалов пленки.  испарение электронного луча характеризуется тем, что оно не покрывает или редко покрывает обе стороны трехмерной структуры цели и обычно осаждается только на поверхности цели.  Это разница между испарением и распылением электронного луча. 

 Применение: 

 Часто используется в полупроводниковой научно - исследовательской промышленности.  Используя ускоренную электронную энергию для борьбы с мишенью материала, мишень материала испаряется и поднимается.  В конечном итоге оседает на цели.